반도체세정장비 소부장 전문기업 ㈜포톤은 세정챔버를 4층으로 구성한 반도체세정장비 ‘아스트론’(ASTRON)을 출시해 수출을 완료했다고 16일 밝혔다. 

반도체제조는 수백 번의 다양한 공정으로 이루어지는데, 그 중 가장 빈번하게 진행되는 것이 ‘세정공정’이다. 반도체세정은 웨이퍼 표면의 불순물을 제거하는 것으로 수율에 절대적인 영향을 미치며,

미세화 진행에 따라 더욱 중요하게 자리매김하고 있다.

반도체세정장비는 25매 또는 50매 웨이퍼를 한 묶음으로 여러 개의 수조를 이동하며 처리하는 ‘배치식’과 세정챔버에서 한 장씩 회전하면서 처리하는 세정효과가 우수한 ‘매엽식’으로 나뉜다. 

매엽식은 하나의 세정챔버에서 처리되는 생산성이 낮아 여러 개의 세정챔버를 설치하여 장비를 구성해야 한다. 

많은 세정챔버를 장착하면 필연적으로 장비가 커져 2층이나 3층 등으로 쌓아올리는 형태로 제작하여 장비 크기를 줄이고 있다.

포톤은 제한된 반도체장비 높이에 많은 층수를 쌓아 장비 크기를 줄이고 생산성을 올리는 방식으로 경쟁력을 높였다. 

여기에 해당 장비 기술력을 바탕으로 2층, 3층, 4층의 다양한 컴팩트 제품군들을 세계시장에 판매하기 위해 반도체 투자가 활발히 진행 중인 중국 및 대만 시장을 우선적으로 공략하고 있다.

포톤 관계자는 “물을 사용하지 않으면서 화학약품 사용량을 1/10로 줄일 수 있는 반도체세정기술이 우리의 다음 목표”라며 “반도체 세정공정에 엄청난 양의 초순수와 화학약품이 소모되는 점을 고려하면 

이러한 차세대 세정기술이야말로 세계시장을 주도하기 위한 우리의 ESG 경영전략”이라고 설명했다.

<관련 기사 보기 >  ㈜포톤, 반도체세정장비 4층 세정챔버 '아스트론'(ASTRON) 출시 (edaily.co.kr)